2-metil-2-adamantanol akrilat

　　Bidang Aplikasi Inti dan Skenario Tipikal

　　1. Resis Fotolitografi Semikonduktor

　　Resis ArF: Sebagai monomer resin matriks, dikombinasikan dengan α-butil-lakton metakrilat (GBLMA) dan 3-hidroksi-1-adamantil akrilat (HADA), dapat disiapkan resis fotolitografi dengan resolusi tinggi hingga 120 nm. Struktur adamantannya mengatur laju pelarutan melalui reaksi dekomposisi asam, dan kontras pengembangan setelah paparan laser 193 nm mencapai 3,8, memenuhi kebutuhan proses canggih.

　　Resis Negatif: Setelah membentuk inklusi dengan siklodekstrin, dapat membangun jaringan silang supramolekuler, yang tetap mempertahankan kelembutan koloid bahkan dalam lingkungan pembekuan -30℃, digunakan untuk pelabelan otomatis kantong darah yang didinginkan, memecahkan masalah keretakan pada suhu rendah yang dialami lem akrilat tradisional.

　　2. Material Optik

　　Lapisan Indeks Bias Tinggi: Dikombinasikan dengan isosorbida diakrilat, dapat disiapkan resin transparan dengan indeks bias 1,58, digunakan untuk lensa kamera smartphone, dengan transmisi cahaya (88%) dan kekerasan tahan gores (4H) yang lebih unggul dibandingkan material PMMA yang dijual di pasaran.

　　Lensa Pengawetan Cahaya: Dengan penambahan 5-10% MAA ke dalam sistem pengawetan UV, keseragaman indeks bias lensa dapat ditingkatkan hingga Δn<±0,0005, cocok untuk elemen optik mikro-nano pada perangkat AR/VR.

　　3. Perekat Berkinerja Tinggi

　　Perekat Tahan Lingkungan Ekstrem: Dikopolimerisasi dengan uretan akrilat, dapat disiapkan perekat struktural yang tahan terhadap siklus suhu dari -50℃ hingga 180℃, digunakan untuk perekatan komponen mesin pesawat terbang, dengan kekuatan geser (22 MPa) dan umur kelelahan (10¹⁰ siklus) yang jauh melampaui perekat epoksi tradisional.

　　Perekat Tekan Peka Biodegradasi: Dikombinasikan dengan polimer blok polilaktat, dapat disiapkan pita ramah lingkungan yang terdegradasi sepenuhnya dalam 30 menit setelah terkena air, memecahkan batasan aplikasi perekat akrilat tradisional dalam pekerjaan lapangan.

　　4. Material Respons Cerdas

　　Hidrogel Sensitif Suhu: Dikopolimerisasi dengan N-isopropil akrilamida, dapat membangun hidrogel cerdas dengan LCST (Suhu Larut Kritis Terendah) sebesar 32℃, digunakan untuk sistem pelepasan obat terkontrol, dengan rasio pembengkakan (500%) dan kekuatan mekanik (264 kPa) yang lebih unggul dibandingkan hidrogel PNIPAM biasa.

　　Polimer Respons Cahaya: Dengan memasukkan MAA melalui polimerisasi radikal bebas, dapat disiapkan resis fotolitografi yang mengalami penyusutan volume (tingkat penyusutan 12%) di bawah penyinaran cahaya 365 nm, digunakan untuk pembentukan presisi pada sistem mikro eleKTro mekanikal (MEMS).

CAS NO：249562-06-9

EC NO：

Rumus Molekul：C₁₄H₂₀O₂

Berat Molekul：220.3074

Nama Lain：

Struktur：