2-metil-2-adamantil metakrilat

　　Bidang Aplikasi Inti dan Skenario Tipikal

　　1. Fotolitografi Semikonduktor

　　Fotolitografi ArF: Sebagai monomer resin matriks, dikombinasikan dengan α-butilakrilat metil (GBLMA) dan 3-hidroksi-1-adamantil akrilat (HADA), dapat memproduksi fotolitografi dengan resolusi tinggi hingga 0,5μm. Struktur adamantannya mengatur laju pelarutan melalui reaksi dekomposisi asam, dan kontras pengembangan setelah paparan laser 193 nm mencapai 3,8, memenuhi kebutuhan proses canggih.

　　Resin Negatif: Setelah membentuk inklusi dengan siklodekstrin, dapat membangun jaringan silang supramolekuler, dan tetap mempertahankan kelembutan koloid dalam lingkungan pembekuan pada -30℃, digunakan untuk pelabelan otomatis kantong darah yang disimpan dingin, memecahkan masalah resin akrilat tradisional yang getas pada suhu rendah.

　　2. Material Optik

　　Lapisan Indeks Bias Tinggi: Dikombinasikan dengan isosorbida diakrilat, dapat memproduksi resin transparan dengan indeks bias 1,58, digunakan untuk lensa kamera smartphone, tingkat transmisi cahaya (88%) dan ketahanan gores (4H) keduanya lebih unggul daripada material PMMA yang dijual di pasaran.

　　Lensa Pengawetan Cahaya: Menambahkan 5-10% MAM ke dalam sistem pengawetan UV dapat meningkatkan keseragaman indeks bias lensa menjadi Δn<±0,0005, cocok untuk elemen optik mikro-nano pada perangkat AR/VR.

　　3. Bidang Biomedis

　　Intermediet Sintesis Obat: Digunakan sebagai bahan baku kunci untuk sintesis obat baru dengan karakteristik antibakteri, antivirus, dan antikanker, karakteristik strukturnya yang unik memainkan peran penting dalam pembangunan molekul obat.

　　Material Biodegradasi: Dikombinasikan dengan polimer blok polilaktat, dapat memproduksi pita ramah lingkungan yang terdegradasi sepenuhnya dalam 30 menit setelah terkena air, memecahkan batasan aplikasi resin akrilat tradisional dalam pekerjaan lapangan terbuka.

　　4. Material Respons Cerdas

　　Hidrogel Sensitif Suhu: Dikopolimerisasi dengan N-isopropilakrilamida, dapat membangun hidrogel cerdas dengan LCST (Suhu Larut Kritis Terendah) sebesar 32℃, digunakan untuk sistem pelepasan obat bertahap, tingkat pembengkakannya (500%) dan kekuatan mekaniknya (264 kPa) keduanya lebih unggul daripada hidrogel PNIPAM biasa.

　　Polimer Respons Cahaya: Melalui polimerisasi radikal bebas dengan memasukkan MAM, dapat memproduksi fotolitografi yang mengalami penyusutan volume (tingkat penyusutan 12%) di bawah penyinaran cahaya 365 nm, digunakan untuk pembentukan presisi sistem mikro-elektro-mekanis (MEMS).

CAS NO：177080-67-0

EC NO：

Rumus Molekul：C₁₅H₂₂O₂

Berat Molekul：234.334

Nama Lain：;2-metil-2-adamantil metakrilat;2-metakriloiloksi-2-metiladamantan (MAMA);2-metakriloiloksi-2-metiladamantan;

Rumus Struktur：