2-metil-2-adamantanol akrilat

　　Asosiy qo'llash sohalari va tipik senariylar

　　1.Yarimo'tkazgich fotolitografiya rezinlari

　　ArF fotolitografiya rezini: Matritsa smola monomeri sifatida, u α-butil-lakton metakrilat (GBLMA) va 3-gidroksi-1-adamantil akrilat (HADA) bilan birikanda, 120 nm o'lchamligiga ega yuqori sezgirlikdagi fotolitografiya rezini tayyorlash mumkin. Uning adamantan tuzilishi kislota eritish reaksiyasi orqali erish tezligini tartibga soladi va 193 nm lazer ta'siridan keyin rivojlanish kontrasti 3,8 ga yetadi, bu esa ilg'or texnologik jarayonlar talablariga javob beradi.

　　Manfiy rezin: Siklodekstrin bilan inklyuzion kompleks hosil qilgandan so'ng, u supermolekulyar o'ta bog'langan tarmoq yaratishi mumkin va -30°C muzlatish sharoitida ham rezin yumshoqligini saqlab qoladi; bu qon quyish xaltalari yorliqlarini avtomatik yopishtirish uchun ishlatiladi va an'anaviy akrilat rezinlarning past haroratda mo'rtligi muammosini hal qiladi.

　　2.Optik materiallar

　　Yuqori sinish ko'rsatkichli qoplam: Izosorbid diakrilat bilan birikanda, sinish ko'rsatkichi 1,58 bo'lgan shaffof smola tayyorlash mumkin, bu aqlli telefonlar kameralari linzalari uchun ishlatiladi; uning yorug'lik o'tkazuvchanligi (88%) va tirnashga qarshi qattiqligi (4H) bozorda sotiladigan PMMA materiallaridan yuqori.

　　Yorug'lik bilan qotuvchi linzalar: UV qotish tizimiga 5-10% MAA qo'shilganda, linzaning sinish ko'rsatkichi bir xilligi Δn<±0,0005 darajasiga oshiriladi, bu esa AR/VR qurilmalarining mikro-nano optik elementlari uchun mos keladi.

　　3.Yuqori samarali yopishtirgichlar

　　Ekstremal sharoitlarga chidamli yopishtirgich: Poliuretan akrilat bilan kopolimerlashganda, -50°C dan 180°C gacha bo'lgan harorat tsikliga chidamli tuzilma yopishtirgichi tayyorlash mumkin, bu aviatsiya dvigatellari qismlarini yopishtirish uchun ishlatiladi; uning qirqish kuchi (22 MPa) va charchoq umri (10¹0 tsikl) an'anaviy epoksid yopishtirgichlaridan sezilarli darajada yuqori.

　　Biologik parchalanadigan bosim sezgir yopishtirgich: Polilaktik kislota blok-polimeri bilan birikanda, suvga tushgandan so'ng 30 daqiqa ichida to'liq parchalanadigan ekologik to'shar tayyorlash mumkin, bu an'anaviy akrilat yopishtirgichlarning ochiq joylarda ishlashidagi cheklovlarini hal qiladi.

　　4.Aqlli javob beruvchi materiallar

　　Haroratga sezgir gidrogel: N-izopropil akrilamid bilan kopolimerlashganda, eng past kritik erish harorati (LCST) 32°C bo'lgan aqlli gidrogel yaratish mumkin, bu dori sekinlashtirish tizimlari uchun ishlatiladi; uning shishish koeffitsienti (500%) va mexanik kuchi (264 kPa) odatdagi PNIPAM gidrogellaridan yuqori.

　　Yorug'likqa javob beruvchi polimerlar: Radikal polimerlanish orqali MAA kiritilganda, 365 nm yorug'lik ta'sirida hajmi qisqaradigan (qisqarish koeffitsienti 12%) fotolitografiya rezini tayyorlash mumkin, bu mikro-elektromexanik tizimlar (MEMS) uchun aniq shakllantirishda ishlatiladi.