2-氧代四氢呋喃-3-羰基-丙烯酸酯

　　Негізгі қолданба салалары мен функционалдық мәні

　　1.Фоторезисттер және микроэлектроникалық материалдар

　　ArF/krF фоторезист мономерлері: Адамантан акрилатымен қоспаланда, шайырдағы еріткіштегі еру жылдамдығы реттеледі. Тетрагидрофуран сақинасының полярлығы кремний пластинкасына жабысу қабілетін арттыруға көмектеседі, ал кетон карбонилі қышқылдық катализдену арқылы экспозицияланған және экспозицияланбаған аймақтардың еру айырмашылығын күшейтеді (контрасттық 4.0-ден асады), бұл 90-130 нм технологиялық процеске арналған фоторезист құрамдарына қолайлы.

　　Электрондық орау материалдары: Эпоксид шайырын модификациялауға қатысатын көпіршікті мономер ретінде, орау материалдарының диэлектрлік тұрақтысын төмендетеді (ε≈3.2) және жоғары жиілікті сигнал беру тиімділігін арттырады, бұл 5G база станцияларының чиптерін орауға арналған.

　　2.Функционалдық бояулар мен желімдер

　　Жоғары жабысқан бояулар: Полиуретан акрилатымен кополимерлену арқылы пайда болған қабаттың металдарға (мысалы, алюминий, мыс) жабысу қабілеті (торлау әдісі бойынша 0-дәреже) қарапайым акрилат бояуларынан айтарлықтай жоғары, сонымен қатар тұзды тұманға төзімділігі (500 сағат ішінде коррозиясыз) 30%-ға артады, бұл теңіз инженериялық құрылымдарының коррозияға қарсы қорғауына қолайлы.

　　UV-қатайған желімдер: 5-15% OTFA қосқанда желім қабатының икемділігі артады (үзілу созылуы 150%-ға жетеді), сонымен бірге жоғары қиғаштық беріктігін сақтайды (>15 МПа), бұл икемді электрондық құрылғылардың қабаттар арасын желімдеуге қолданылады.

　　3.Биомедициналық материалдар

　　Ыдырайтын гидрогельдер: Полиэтиленгликоль диакрилатымен (PEGDA) кополимерлену арқылы pH-ге сезімтал гидрогельдер құрылады (pH<5 болғанда ісіну коэффициенті 200%-ға артады), бұл ісік микроортасының (әлсіз қышқылдық) дәрілік мақсатты босату жүйелеріне арналған.

　　Тірек инженериясынық каркастары: Қос байланыс арқылы полимерлену нәтижесінде қуысты каркастар түзіледі, тетрагидрофуран сақинасының гидрофильдігі жасушалардың жабысуын ынталандырады (жасушалардың тіршілік қабілеттілігі > 90%), бұл шеміршек тіндерін қалпына келтіруге арналған.