Heksametildisiloksana

　　Terutamanya digunakan sebagai agen pelindung dalam sintesis organik

　　Sebagai reagen pelindung hidroksil: Dalam sintesis organik, ia boleh bertindak balas dengan sebatian yang mengandungi kumpulan hidroksil seperti alkohol dan fenol, menukar kumpulan hidroksil kepada kumpulan trimetilsiloksi(\(-OSi(CH_3)_3\)), bagi mengelakkan kumpulan hidroksil daripada dioksidakan atau mengganggu tindak balas lain (seperti pengasilan, pengalkilan). Selepas tindak balas selesai, kumpulan pelindung boleh dikeluarkan melalui asid cair atau fluorida (seperti ammonium fluorida tetrabutil) untuk memulihkan kumpulan hidroksil.

　　Contoh: Bertindak balas dengan etanol untuk menghasilkan eter trimetilsilil etil(\(CH_3CH_2OSi(CH_3)_3\)), melindungi kumpulan hidroksil etanol.

　　Sains Bahan dan Rawatan Permukaan

　　Penyediaan salutan siloksana: Melalui polimerisasi plasma atau pemendapan wap, HMDSO boleh membentuk filem siloksana yang seragam pada permukaan logam, kaca, dan polimer, memberikan sifat hidrofobik, kakisan rintang, atau geseran rendah kepada bahan tersebut. Sebagai contoh, selepas rawatan permukaan kaca, ia boleh menjadikannya kalis air dan kalis kabut.

　　Prekursor kaedah sol-gel: Dicampur dengan silana lain (seperti tetraetoksisilana), melalui hidrolisis dan pemeluwapan, ia boleh menyediakan gel atau filem siloksana organik untuk kegunaan cat, pelekat, dan lain-lain.

　　Pelarut dan Pencair

　　Sebagai pencair untuk resin silikon dan getah silikon, mengurangkan kelikatan sistem, meningkatkan kebolehprosesan, dan mudah meruap tanpa meninggalkan sisa dalam produk akhir. Kerana sifat lengai kimianya, ia boleh bertindak sebagai pelarut lengai untuk tindak balas bersuhu tinggi, terutamanya sesuai untuk tindak balas yang sensitif kepada air (seperti tindak balas Grignard, tindak balas organologam).

　　Industri Elektronik dan Semikonduktor

　　Digunakan untuk pemprosesan fotoresis: Dalam pembuatan semikonduktor, HMDSO boleh bertindak sebagai agen pra-pemprosesan untuk fotoresis, meningkatkan daya lekat fotoresis pada permukaan kepingan silikon, dan mengurangkan masalah pengelupasan semasa pembangunan seterusnya.

　　Bantu pembentukan plasma: Dalam proses pembentukan plasma, wapnya boleh mengambil bahagian dalam tindak balas, mengatur kadar pembentukan atau melindungi kawasan tertentu, meningkatkan ketepatan pembentukan.

　　Reagen Derivatif dalam Kimia Analitik

　　Digunakan untuk analisis kromatografi gas (GC): Melakukan derivatifasi pada sebatian kutub (seperti alkohol, amina), menukarkannya kepada derivatif siloksana bukan kutub, meningkatkan kesan pemisahan dalam turus kromatografi dan kepekaan pengesanan.

CAS NO：：107-46-0

EC NO：：203-492-7

Formula Molekul：C₆H₁₈OSi₂

Berat Molekul：162.38

Nama Lain：;Heksametil disilil eter;Heksametil disiloksana;Eter silikon;HMDO;MM;

Struktur：