Geksametildisiloksan

　　Asosan organik sintezdagi himoya vositasi sifatida qo'llaniladi

　　Gidroksil guruhini himoya qiluvchi reagent sifatida: Organik sintezda, u spirtlar, fenollar va asosli birikmalar bilan reaksiyaga kirishib, gidroksil guruhini trimetilsiloksi(\(-OSi(CH_3)_3\)) guruhiga aylantiradi, bu reaksiya jarayonida gidroksil guruhining oksidlanishiga yoki boshqa reaksiyalarga (masalan, atsilanish, alkillanish) xalaqit berishiga oldini oladi. Reaksiya tugagach, suyultirilgan kislota yoki ftoridlar (masalan, tetrabutilammoniy ftorida) yordamida himoya guruhini olib tashlash va gidroksil guruhini tiklash mumkin.

　　Misol: Etanol bilan reaksiyaga kirishib, trimetilsilil etil efirini(\(CH_3CH_2OSi(CH_3)_3\)) hosil qiladi, etanolning gidroksil guruhini himoya qiladi.

　　Materialshunoslik va sirtni ishlov berish

　　Siloksan qoplamalarini tayyorlash: Plazma polimerizatsiyasi yoki gaz fazali cho'kma usuli orqali, HMDSO metall, shisha, polimer sirtlarida bir xil siloksan plyonkasini hosil qilishi mumkin, bu materialga gidrofoblik, korroziyaga chidamlilik yoki past ishqalanish xususiyatini beradi. Masalan, shisha sirtini ishlov berish orqali u suvga va tumanli bo'lishga chidamli bo'ladi.

　　Zol-gel usuli uchun oldingi modda: Boshqa silanlar (masalan, tetraetoksisilan) bilan aralashtirilib, gidroliz va kondensatsiyadan o'tganda, organosiloksan geli yoki plyonkalari tayyorlanadi, ular bo'yoq moddalar, yopishtiruvchi moddalar va boshqalar uchun ishlatiladi.

　　Erituvchi va suyultiruvchi sifatida

　　Organosilikon qatronlar, silikon kauchuklar uchun suyultiruvchi sifatida ishlatiladi, tizimning yopishqoqligini kamaytiradi, qayta ishlash xususiyatlarini yaxshilaydi va osongina bug'lanadi, yakuniy mahsulotda qolmaydi. Kimyoviy inerti tufayli, u yuqori haroratli reaksiyalar uchun inert erituvchi sifatida ishlatilishi mumkin, ayniqsa suvga sezgir reaksiyalar (masalan, Grignard reaksiyasi, metallorganik reaksiyalar) uchun mos keladi.

　　Elektronika va yarimo'tkazgichlar sanoati

　　Fotorezistni ishlov berish uchun: Yarimo'tkazgichlar ishlab chiqarishda, HMDSO fotorezistni oldindan ishlov berish vositasi sifatida ishlatilishi mumkin, fotorezistning kremniy plastinkasi sirtiga yopishish kuchini oshiradi va keyingi rivojlanish jarayonida tushib ketish muammolarini kamaytiradi.

　　Plazma o'yma yordamchisi sifatida: Plazma o'yma jarayonida, uning bug'i reaksiyaga kirishishi, o'yma tezligini tartibga solishi yoki ma'lum hududlarni himoya qilishi mumkin, bu o'yma aniqligini oshiradi.

　　Tahliliy kimyodagi derivatizatsiya reagenti

　　Gaz xromatografiyasi (GC) tahlili uchun: Qutbli birikmalarni (masalan, spirtlar, aminlar) derivatizatsiya qilish uchun ishlatiladi, ularni qutbsiz siloksan hosilalariga aylantiradi, bu xromatografiya kolonkasida ajralish samaradorligini va aniqlash sezuvchanligini yaxshilaydi.

CAS NO：107-46-0

EC NO：203-492-7

Molekula formulasi: C₆H₁₈OSi₂

Molekula massasi: 162.38

Boshqa nomlari:;geksametildisil efir;geksametildisiloksan;silikon efiri;HMDO;MM;

Tuzilma formulasi: