2-etil-2-adamantil akrilat

　　Bidang Aplikasi Teras dan Senario Tipikal

　　1. Resis Fotolitografi Semikonduktor

　　Resis Fotolitografi ArF: Sebagai monomer resin matriks, apabila digabungkan dengan α-butil-lakton metakrilat (GBLMA) dan 3-hidroksi-1-adamantil akrilat (HADA), ia boleh menghasilkan resis fotolitografi kepekaan tinggi dengan resolusi sehingga 28 nm. Struktur adamantannya mengawal kadar pelarutan melalui tindak balas pengasidan, dan kontras pembangunan selepas pendedahan laser 193 nm mencapai 3.8, memenuhi keperluan proses lanjutan.

　　Resis Negatif: Selepas membentuk kompleks inklusi dengan siklodekstrin, ia boleh membina rangkaian saling silang supramolekul, mengekalkan kelembutan koloid walaupun dalam persekitaran beku pada -30℃, digunakan untuk pelabelan automatik beg darah sejuk, menyelesaikan masalah kerapuhan gam akrilat tradisional pada suhu rendah.

　　2. Bahan Optik

　　Salutan Indeks Biasan Tinggi: Apabila digabungkan dengan isosorbida diakrilat, ia boleh menghasilkan resin lutsinar dengan indeks biasan 1.58, digunakan untuk lensa kamera telefon pintar, dengan kadar transmisi cahaya (88%) dan kekerasan tahan calar (4H) yang lebih baik daripada bahan PMMA komersial.

　　Lens Pengawapan UV: Dengan menambahkan 5-10% EAA ke dalam sistem pengawapan UV, keseragaman indeks biasan lensa boleh ditingkatkan kepada Δn<±0.0005, sesuai untuk elemen optik mikro/nano peranti AR/VR.

　　3. Gam Berprestasi Tinggi

　　Gam Tahan Persekitaran Melampau: Melalui polimerisasi bersama dengan poliuretana akrilat, ia boleh menghasilkan gam struktur yang tahan kitaran suhu dari -50℃ hingga 180℃, digunakan untuk perekat bahagian enjin pesawat, dengan kekuatan ricih (22 MPa) dan jangka hayat keletihan (10¹⁰ kitaran) yang jauh melebihi gam epoksi tradisional.

　　Gam Tekanan Peka Biodikomposisi: Apabila digabungkan dengan polimer blok poliasid laktik, ia boleh menghasilkan pita mesra alam yang terurai sepenuhnya dalam masa 30 minit selepas terkena air, menyelesaikan batasan penggunaan gam akrilat tradisional dalam kerja lapangan.

　　4. Bahan Respons Pintar

　　Hidrogel Sensitif Suhu: Melalui polimerisasi bersama dengan N-isopropil akrilamida, ia boleh membina hidrogel pintar dengan LCST (Suhu Kritis Larutan Terendah) 32℃, digunakan untuk sistem pembebasan ubat terkawal, dengan kadar pembengkakan (500%) dan kekuatan mekanikal (264 kPa) yang lebih baik daripada hidrogel PNIPAM biasa.

　　Polimer Respons Cahaya: Dengan memperkenalkan EAA melalui polimerisasi radikal bebas, ia boleh menghasilkan resis fotolitografi yang mengalami pengecutan isipadu (kadar pengecutan 12%) di bawah cahaya 365 nm, digunakan untuk pembentukan ketat Sistem Elektromekanikal Mikro (MEMS).

CAS NO：303186-14-3

EC NO：

Formula Molekul：C₁₅H₂₂O₂

Berat Molekul：234.334

Nama Lain：

Struktur：